Zaawansowane strategie w inżynierii cienkich warstw przez rozpylanie magnetronowe

Opinie czytelników

Obecnie brak opinii czytelników. Ocena opiera się na 2 głosach.

Oryginalny tytuł:

Advanced Strategies in Thin Film Engineering by Magnetron Sputtering

Zawartość książki:

Ostatnie lata były świadkiem rozkwitu wielu nowych strategii opartych na technice rozpylania magnetronowego, mających na celu zaawansowaną inżynierię cienkich warstw, takich jak HiPIMS, połączone procesy próżniowe, wdrożenie złożonych gazów prekursorowych lub włączenie dział cząstek do reaktora, między innymi.

W czołówce tych podejść, badania koncentrujące się na nanostrukturalnych powłokach pojawiają się dziś jako jeden z priorytetów w wielu społecznościach naukowych i technologicznych: Nauka stojąca za nimi jawi się w większości przypadków jako "terra incognita", fascynując zarówno fundamentalistów, którzy wyobrażają sobie nowe koncepcje, jak i eksperymentatorów, którzy są w stanie tworzyć i badać nowe powłoki o niespotykanych dotąd właściwościach. Te wyzwania naukowe i technologiczne, wraz z istnieniem wielu zagadnień naukowych, które nie zostały jeszcze wyjaśnione w klasycznym osadzaniu metodą rozpylania magnetronowego (np.

kontrola i stabilność procesu, mechanizmy nanostrukturyzacji, związek między morfologią a właściwościami filmu lub procedury skalowania z laboratorium do skali przemysłowej), zmotywowały nas do wydania specjalistycznego tomu zawierającego najnowocześniejsze informacje, które łączą te innowacyjne podstawowe i stosowane tematy badawcze. Obejmują one między innymi: -właściwości związane z nanostrukturą; -procesy atomistyczne podczas wzrostu warstwy; -kontrola procesu, stabilność procesu i diagnostyka in situ; -podstawy i zastosowania HiPIMS; -zjawiska nanostrukturyzacji cienkich warstw; -właściwości tribologiczne, antykorozyjne i mechaniczne; -kombinowane procedury oparte na technice rozpylania magnetronowego; -zastosowania przemysłowe; -urządzenia.