Projektowanie i symulacja procesów chemicznych: Aplikacje Aspen Plus i Aspen Hysys

Opinie czytelników

Obecnie brak opinii czytelników. Ocena opiera się na 4 głosach.

Oryginalny tytuł:

Chemical Process Design and Simulation: Aspen Plus and Aspen Hysys Applications

Zawartość książki:

Wszechstronny i zorientowany na przykłady tekst do nauki projektowania i symulacji procesów chemicznych

Chemical Process Design and Simulation to przystępny przewodnik, który oferuje informacje na temat najważniejszych zasad projektowania inżynierii chemicznej i zawiera ilustrujące przykłady ich zastosowania, które wykorzystują oprogramowanie symulacyjne. Wszechstronny i praktyczny tekst wykorzystuje zarówno oprogramowanie symulacyjne Aspen Plus, jak i Aspen Hysys.

Autor opisuje podstawowe metodologie projektowania wspomaganego komputerowo i oferuje opis podstawowych etapów symulacji procesów w Aspen Plus i Aspen Hysys. Tekst zawiera przegląd projektowania i symulacji poszczególnych prostych operacji jednostkowych, które obejmują model matematyczny każdej operacji jednostkowej, takiej jak reaktory, separatory i wymienniki ciepła. Autor analizuje również projektowanie nowych zakładów i symulację istniejących zakładów, w których stosowane są konwencjonalne chemikalia i mieszaniny materiałów o mierzalnym składzie. Ponadto, aby pomóc w zrozumieniu, zamieszczono rozwiązania przykładów rzeczywistych problemów. Ostatnia sekcja obejmuje projektowanie instalacji i symulację procesów wykorzystujących niekonwencjonalne składniki. To ważne źródło informacji:

⬤ Zawiera informacje na temat zastosowania oprogramowania Aspen Plus i Aspen Hysys, które umożliwiają porównanie obu systemów oprogramowania.

⬤ Łączy podstawowe teoretyczne zasady procesu chemicznego i projektowania z rzeczywistymi przykładami.

⬤ Obejmuje zarówno procesy z konwencjonalnymi chemikaliami organicznymi, jak i procesy z bardziej złożonymi materiałami, takimi jak ciała stałe, mieszanki olejów, polimery i elektrolity.

⬤ Przedstawia przykłady, które są rozwiązywane przy użyciu nowej wersji oprogramowania Aspen, ASPEN One 9.

Napisany z myślą o studentach i pracownikach naukowych zajmujących się projektowaniem procesów, Chemical Process Design and Simulation jest praktycznym i przystępnym przewodnikiem po projektowaniu i symulacji procesów chemicznych przy użyciu sprawdzonego oprogramowania.